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      半導體芯片制造工半導體芯片制造中級工單項選擇題每日一練(2020.02.11)

      • 單項選擇題

        將預先制好的掩膜直接和涂有光致抗蝕劑的晶片表面接觸,再用紫外光照射來進行曝光的方法,稱為()曝光。

        A.接觸
        B.接近式
        C.投影

      • 單項選擇題

        說明構(gòu)成每個單元所需的基本門和基本單元的集成電路設計過程叫():

        A、邏輯設計
        B、物理設計
        C、電路設計
        D、系統(tǒng)設計

      • 單項選擇題

        下列晶體管結(jié)構(gòu)中,在晶體管輸出電流很大時常使用的是:()

        A、單基極條圖形
        B、雙基極條圖形
        C、基極和集電極引線孔都是馬蹄形結(jié)構(gòu)
        D、梳狀結(jié)構(gòu)

      • 單項選擇題

        離子注入層的雜質(zhì)濃度主要取決于離子注入的()。

        A.能量
        B.劑量

      • 單項選擇題

        單相3線插座接線有嚴格規(guī)定()

        A.“左零”“右火”
        B.“左火”“右零”

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