<b id="sxcbi"></b>
A.調(diào)整基臺(tái)高度，與對(duì)頜牙有2mm以上的距離 B.調(diào)磨基臺(tái)軸面，形成共同就位道 C.調(diào)整基臺(tái)聚合度大于60°，以便于修復(fù)體就位 D.調(diào)整基臺(tái)外形輪廓，使將來(lái)修復(fù)體人工牙冠在基臺(tái)周圍的厚度比較均勻 E.調(diào)整基臺(tái)齦緣肩臺(tái)輪廓，直至在預(yù)定位置形成清晰的肩臺(tái)形態(tài)
A.單純創(chuàng)傷會(huì)加重牙周炎癥 B.單純創(chuàng)傷會(huì)造成骨下袋 C.治療牙周炎消除創(chuàng)傷是第一位的 D.創(chuàng)傷會(huì)增加牙的松動(dòng)度，所以動(dòng)度增加是診斷創(chuàng)傷的唯一指征 E.自限性牙松動(dòng)，沒(méi)有炎癥時(shí)不造成牙周組織破壞
A.過(guò)敏性痛 B.自發(fā)性痛 C.咬合痛 D.齦炎 E.修復(fù)體松動(dòng)
A.術(shù)后4個(gè)月以上B.術(shù)后2～3個(gè)月C.術(shù)后1個(gè)月D.術(shù)后2周E.術(shù)后1周
A.有助于發(fā)音 B.有助于美觀 C.便于排列人工牙 D.模擬天然牙 E.便于取得前伸平衡
A.蓋過(guò)磨牙后墊 B.蓋過(guò)磨牙后墊的2/3 C.蓋過(guò)磨牙后墊的1／2～2/3 D.蓋過(guò)磨牙后墊的前1／3～1／2 E.暴露磨牙后墊
A.0.5mm B.1mm C.1.5mm D.2mm E.緊密接觸，無(wú)間隙
A.材料強(qiáng)度更好 B.不存在崩瓷的風(fēng)險(xiǎn) C.備牙量要求較少 D.制作相對(duì)簡(jiǎn)單，設(shè)備要求低 E.以上均是
A.基托的蠟型厚度要比設(shè)計(jì)形態(tài)厚度略厚 B.應(yīng)將蠟型與模型之間完全封閉以免裝盒時(shí)石膏進(jìn)入組織面 C.蠟型不必高度光滑，反正開(kāi)盒后還要打磨拋光 D.蠟型應(yīng)恢復(fù)原有牙齦外觀，并在人工牙根方形成適度的根面形態(tài) E.蠟型應(yīng)根據(jù)患者的年齡特征正確恢復(fù)齦緣的形態(tài)和位置
A.咬合緊的上前牙 B.覆蓋過(guò)小的前牙 C.力大的前牙 D.無(wú)咬合的上前牙 E.力過(guò)大的上頜后牙
微信掃一掃關(guān)注公眾號(hào)后聯(lián)系客服
微信掃碼免費(fèi)搜題
創(chuàng)傷會(huì)加重牙周炎癥
力大的前牙