問(wèn)答題

離子注入后,硅片晶格結(jié)構(gòu)遭到破壞,因此需要通過(guò)退火進(jìn)行修復(fù)。

答案: 是的,您的理解是正確的。離子注入是半導(dǎo)體制造中的一種關(guān)鍵工藝,用于摻雜半導(dǎo)體材料,以改變其電學(xué)性質(zhì)。在離子注入過(guò)程中,高...
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