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采用直流輝光放電時,一般選擇在異常輝光放電區(qū)進行濺射鍍膜。
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薄膜屬于二維材料。
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利用高能粒子高速撞擊靶材,使大量的靶材表面原子獲得相當(dāng)高的能量而脫離靶材的束縛飛向襯底,沉積成膜,這種制膜方法稱為濺射鍍膜。
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