(1)內部夾雜聚集,顆粒大相成的裂紋; (2)因氣泡形成的裂紋; (3)因縮孔形成的裂紋。
鹽酸水溶液HCl-份或工業(yè)鹽酸(濃度在5%以上)。
(1)所用浸蝕劑的成分而遺留的宏觀孔穴; (2)浸蝕溫度; (3)浸蝕時間; (4)試樣被檢面的粗糙度。